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连续式化学镀的清洗技术

作者: admin 时间:2020-08-19 来源:未知
摘要:连续式化学液镀的清洗具有连续工作、用水量大的特点,特别对于镀液中含有有毒离子时,废液处理费用昂贵。针对连续式化学镀的这一特点,介绍了一种"三级溢流、六级清洗"的清洗方式...

 在电子元器件生产行业,化学镀作为一种常用的镀膜方式而普遍存在。在工业化大生产中,连续式化学镀又是量产的必然方式。但由于化学镀中常有有毒的离子存在,例如镉离子,清洗后的水中就会存在这些有毒离子,这些含有有毒离子的废水不能直接排放,必须交给专业的厂家处理,处理的费用非常昂贵。而产品量产中使用的连续式化学镀后清洗由于清洗工位在连续不间断工作,需要的用水量非常大,随之产生的废水量就会非常多,因此要降低废水处理成本,就必须在保证清洗效果的同时大大降低废液的产生量。

 连续式化学镀清洗技术的基本思想根据前面所述,针对连续式化学镀的清洗技术需要解决的关键问题在于解决保证清洗效果与尽量减少废水量之间的矛盾。在通常的清洗工艺中,为了保证清洗效果,往往都是对同一清洗件采用纯净的水多次清洗,例如半导体行业中常用的快排式冲洗,这种清洗方式的缺点就是耗水量太。半导体清洗行业中还经常用到多级溢流槽清洗的方式减少用水量。但是多级溢流槽清洗的方式不适用于大生产对于清洗效率的需要。不过溢流清洗确实大大减少了用水量,所有溢流清洗的思想可以利用。

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