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光学元件镀膜前高洁净度清洗工艺研究

作者: admin 时间:2020-08-07 来源:未知
摘要:光学元件镀膜前超高洁净度要求的超声清洗工艺。...

 光学元件镀膜前超高洁净度要求的超声清洗工艺,在超声波清洗机的频率和功率一定的情况下,通过研究超声清洗剂、清洗温度、清洗时间等对光学元件超声清洗效果的影响,研制出有效清洗光学元件的清洗工艺,并保障超声清洗工艺对光学元件的表面状况无损伤。同时发现光学元件的放置时间会影响元件的清洗效果。超声清洗刚加工好的光学元件洁净效果较好,清洗时间较短;有 6 个月存放期的光学元件,表面颗粒污染很难洁净清洗。 关键词 光学元件;超声清洗;清洗效果。

 高通量激光装置高通量运行时,如果光学元件表面留有任何污物,吸收激光后会发生爆炸性蒸发,导致玻璃或镀膜表面损伤,降低光学元件的损伤阈值,这要求光学元件具有很高的洁净度。

 对于镀膜元件来说,保障元件镀膜前表面高洁净度,降低薄膜内的杂质污染物,提高薄膜元件抗激光损伤能力尤为重要。要保障元件镀膜前的高洁净度,镀膜前元件的洁净清洗至关重要。光学元件清洗后洁净指标要求:颗粒物污染无大于 1 μm 的颗粒污染,不挥发剩余物(NVR)的质量浓度小于 1 μg/cm2。为了保证清洗手段对光学元件有高效的洁净能力又不损坏光学元件,多采用超声波清洗光学元件的方法。超声波清洗是用超声波促进清洗液的化学、物理反应效果和超声波空穴效应产生的机械力作用去除污染。

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