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光学元件超声清洗工艺

作者: admin 时间:2020-08-12 来源:未知
摘要:通过研究超声清洗剂、清洗温度等工艺参数的优化,找到了能够有效祛除元件表面无机污染物和有机污染物的较佳超声清洗工艺,且超声清洗没有对光学元件表面产生损伤,清洗后的光学元...

 光学元件超声清洗工艺的实验研究。通过研究超声清洗剂、清洗温度等工艺参数的优化,找到了能够有效祛除元件表面无机污染物和有机污染物的较佳超声清洗工艺,且超声清洗没有对光学元件表面产生损伤,清洗后的光学元件接触角小于6°,并不残留大于1μm 的颗粒,超声清洗对光学元件表面污 染物的祛除能力远胜于手工清洗。

 薄膜的激光损伤与薄膜微缺陷有着密切的关系,微缺陷是薄膜产生激光损伤的重要诱因,大多数的激光损伤都是从薄膜中缺陷点处开始发生并逐渐向外发展的,因此高通量激光装置的光学元件在系统高通量运行时,光学元件表面留有的杂质污染物,形成杂质缺陷或镀膜后的节瘤缺陷,将导致高抛光度的玻璃或镀膜表面损伤,降低光学元件的损伤阈值,另外光学元件表面残留的有机污染物不仅产生有机吸收和热透镜等效应降低损伤阈值,也会降低光学元件膜层的附着力。因此,随着神光-Ⅲ装置更高通量的需求,要求光学元件有更高的激光损伤阈值,这就要求光学元件具有很高的洁净度。因此,光学元件在加工过程中和镀膜前都需要洁净清洗,保障元件表面高洁净度,提高元件抗激光损伤能力。为了保证清洗方法在实践加工中切实可行,而且保障清洗手段对光学元件有高效的洁净能力又不损坏光学元件。近年来,国内外已经发展了诸多新清洗技术,如机 械清洗技术、干冰清洗技术、激光清洗技术、超声波和兆声波清洗技术等,其中在光学元件的清洗领 域,超声波清洗技术作为一种高效、高洁净度的清洗手段开始逐渐替代手工清洗。将复频超声波清洗技术引入到激光装置中光学元件的洁净清洗中,以极大提升光学元件的洁净清洗水平,替代现有手工清洗技术。

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